今までの経験と実績に裏打ちされた軌道設計により、狙いのビームを発生させます。
設計とデザインレビューのフィードバックで最適なものに仕上げます。
イオン電子設計思想
対応可能条件
| ビームエネルギー | 数eVから60keV程度 |
|---|---|
| ビーム輸送系 | 4MeVの実績(集束レンズ部) |
| ビーム電流 | 1pAから200mA(最大12kW程度、60keV200mA) |
| ビームサイズ | 数μmから500mm |
| ビーム引き出し効率 | 100%を追求(電子銃の例) |
| 安定性 | ビーム電流0.05%の安定性（電子銃の例） |
| 信頼性 | 生産工程用の品質を確保 |
| ビーム評価 | プロファイルモニターによる性能評価 |
電子銃形式例
- ピアス型エレクトロンボンバード加熱陰極
- ヘアピン型熱陰極、LaB6熱陰極
- プラズマ電子銃
- サーマルフィールドエミッション型（TFE）
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（高速スキャン電子銃 DC～5kHz 生産工程用）
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タングステンの電子ビーム溶接
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TEM試料加熱の様子
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高速スキャンによる均一な蛍光発光
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RHEED像
イオン銃形式
- エレクトロンボンバード型
- コールドカソードPIG型
- 表面電離型（Fr等）、アルカリ金属型（Cs等）
- 金属蒸気型（P,As）
- RF型（13.56MHz）
オプション
- 加速減速静電レンズ、静電電磁偏向レンズ
- EXBセパレータ（質量分離）
- マグネットセパレーター
- エネルギーセパレーター
- 電荷交換型ニュートラライザー
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金属イオン銃
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RFイオン銃
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RFイオン銃
